[发明专利]一种硅片和金属基座的无应力组合方法及其结构有效

专利信息
申请号: 201510084322.3 申请日: 2015-02-16
公开(公告)号: CN104729770B 公开(公告)日: 2017-12-05
发明(设计)人: 张惠益;周永宏;邹崇;胡淋清 申请(专利权)人: 福建上润精密仪器有限公司
主分类号: G01L1/18 分类号: G01L1/18;G01L9/08;G01L13/00
代理公司: 福州市众韬专利代理事务所(普通合伙)35220 代理人: 陈智雄,黄秀婷
地址: 350015 福*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种硅片和金属基座的无应力组合方法,步骤包括在金属基座上涂上粘合剂,使硅片的玻璃基片一面与该粘合剂层接触;设定好温度、静电场强度和真空度,使得玻璃基片和粘合剂以及粘合剂层和金属基座的接触面之间发生反应,分别生成玻璃‑粘合剂复合氧化物层和粘合剂‑金属复合氧化物层。其结构包括依次连接的硅片、粘合剂层和金属基座,其中硅片的玻璃基片与粘合剂层间、粘合剂层与金属基座间分别设有玻璃‑粘合剂复合氧化物层和粘合剂‑金属复合氧化物层。该发明解决了现有硅片和金属基座胶粘合的接合不牢固且产生应力的缺点,具有使得硅片和金属基座接合牢固且能有效消除键合面的应力,有效地提高了单晶硅压力/差压传感器的检测精度。
搜索关键词: 一种 硅片 金属 基座 应力 组合 方法 及其 结构
【主权项】:
一种硅片和金属基座的无应力组合方法,其特征在于:其步骤包括,(1)制备粘合剂;(2)在金属基座(3)上涂上粘合剂,形成具有厚度的粘合剂层(2),使MEMS硅片(1)的玻璃基片(12)一面与该粘合剂层(2)接触,并压紧使得接触面接合紧密;(3)设定好温度、静电场强度和真空度,使得MEMS硅片(1)的玻璃基片(12)和粘合剂层(2)的接触面之间以及粘合剂层(2)和金属基座(3)的接触面之间发生离子扩散迁移及阳极氧化的电化学反应,分别生成玻璃‑粘合剂复合氧化物层(4)和粘合剂‑金属复合氧化物层(5),使粘合剂层内部的空气充分排空并固化;其中,所述粘合剂的成分主要由以下组分组成:环氧树脂5‑12份,丁苯橡胶16‑25份,有机硅橡胶乳液9‑10份,硅酸20‑23份,邻苯二甲酸15‑22份,乳化剂6‑7份,分散剂3‑10份。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福建上润精密仪器有限公司,未经福建上润精密仪器有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510084322.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top