[发明专利]非易失性锁存电路和逻辑电路以及使用它们的半导体器件在审
申请号: | 201510084681.9 | 申请日: | 2010-11-16 |
公开(公告)号: | CN104658598A | 公开(公告)日: | 2015-05-27 |
发明(设计)人: | 加藤清;小山润 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | G11C14/00 | 分类号: | G11C14/00;H01L27/06;H01L27/105 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 叶晓勇;汤春龙 |
地址: | 日本神奈*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 为了提供新的非易失性锁存电路以及使用非易失性锁存电路的半导体器件,非易失性锁存电路包括:锁存部分,具有循环结构,其中第一元件的输出电连接到第二元件的输入,并且第二元件的输出电连接到第一元件的输入;以及数据保存部分,配置成保存锁存部分的数据。在数据保存部分中,将使用氧化物半导体作为用于形成沟道形成区的半导体材料的晶体管用作开关元件。另外,包括电连接到晶体管的源电极或漏电极的电容器。 | ||
搜索关键词: | 非易失性锁存 电路 逻辑电路 以及 使用 它们 半导体器件 | ||
【主权项】:
一种半导体器件,包括:第一元件;第二元件;在所述第一元件和所述第二元件之上的绝缘层;以及包括晶体管和电容器的数据保存部分,其中,所述第一元件的输出电连接到所述第二元件的输入,并且所述第二元件的输出电连接到所述第一元件的输入,其中,所述第一元件和所述第二元件的每一个包括晶体管,所述晶体管的沟道形成区包括晶体硅,其中,所述数据保存部分的所述晶体管的沟道形成区包括所述绝缘层之上的氧化物半导体层,其中,所述数据保存部分的所述晶体管的源极和漏极其中之一电连接到所述电容器的一对电极之一,以及其中,所述数据保存部分的所述晶体管的所述源极和所述漏极中的另一个电连接到所述第一元件的所述输入和提供有输入信号的布线。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社半导体能源研究所;,未经株式会社半导体能源研究所;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510084681.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种具有不规则铜线的漆包线
- 下一篇:一种带指南及照明功能的录音笔