[发明专利]一种用于微纳器件制作的样品处理装置及处理工艺有效
申请号: | 201510089590.4 | 申请日: | 2015-02-27 |
公开(公告)号: | CN104752282B | 公开(公告)日: | 2018-08-07 |
发明(设计)人: | 何亮;麦立强;宋培帅;王旭坤;尹聪;杨枭 | 申请(专利权)人: | 武汉理工大学 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/02 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人: | 张惠玲 |
地址: | 430070 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供一种用于微纳器件制作的样品处理装置,包括由铁氟龙制作的洗显装置与甩干装置,所述洗显装置包括底盘、通过螺丝固定在所述底盘上的提杆,所述底盘上设有若干矩形凹槽与圆形通孔,所述圆形通孔从所述底盘底面贯穿至所述矩形凹槽底部;所述甩干装置中间设有凹槽、周围设有镂空的齿状边缘;还提供了一种用于微纳器件制作的样品清洗、显影、润洗的处理工艺。本发明的样品处理装置,用于样品清洗、显影、润洗与甩干过程盛放微纳器件,使样品能得到稳定可靠的清洗与甩干;本发明的样品处理工艺,可显著提高样品清洗、显影、润洗的效率,缩短微纳器件制作周期。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 器件 制作 样品 处理 装置 工艺 | ||
【主权项】:
1.一种用于微纳器件制作的样品处理装置,其特征在于,包括由铁氟龙制作的洗显装置与甩干装置,所述洗显装置包括底盘、通过螺丝固定在所述底盘上的提杆,所述底盘上设有若干矩形凹槽与圆形通孔,所述圆形通孔从所述底盘底面贯穿至所述矩形凹槽底部;所述甩干装置中间设有凹槽、周围设有镂空的齿状边缘;以上所述矩形凹槽的宽小于所述圆形通孔的直径;以上所述提杆为可拆卸式提杆,下部设有螺纹。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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