[发明专利]制造装置管理系统以及制造装置管理方法有效
申请号: | 201510094685.5 | 申请日: | 2015-03-03 |
公开(公告)号: | CN104934349B | 公开(公告)日: | 2018-02-02 |
发明(设计)人: | 麻柄隆 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;G06Q10/06 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 徐冰冰,刘杰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种制造装置管理系统以及制造装置管理方法。实施方式所涉及的制造装置管理系统包括不合格率检测部、明显误差检验部、以及不合格判定部。所述不合格率检测部提取具有第1不合格率的第1装置通过履历。所述不合格率检测部检测从所述第1装置通过履历除去了具有第2不合格率的第2装置通过履历的第3不合格率。所述明显误差检验部算出明显误差检验值。所述不合格判定部基于所述第3不合格率和所述明显误差检验值提取第3装置通过履历。 | ||
搜索关键词: | 制造 装置 管理 系统 以及 方法 | ||
【主权项】:
一种制造装置管理系统,具备:不合格率检测部,提取在一个工序中具有第1不合格率的第1装置通过履历,并检测在所述第1装置通过履历中除去了第2装置通过履历后的履历的不合格率即第3不合格率,所述第2装置通过履历是在所述一个工序以外的其他工序中具有第2不合格率的装置通过履历;明显误差检验部,基于有无不合格图案来算出明显误差检验值;以及不合格判定部,基于所述第3不合格率和所述明显误差检验值,从所述第1装置通过履历的除去了所述第2装置通过履历后的履历中提取第3装置通过履历。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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