[发明专利]用于形成蚀刻掩模的玻璃基板的前处理方法

摘要

本发明提供一种玻璃基板的前处理方法，在表面具备金属配线、和由有机或无机材料构成的非导电性的被膜的玻璃基板上形成蚀刻掩模后，进行蚀刻加工、和蚀刻掩模的剥离的情况下，可以在玻璃基板整个表面，几乎不残留剥离残渣地迅速地使蚀刻掩模剥离，并提供在实施了该前处理方法的玻璃基板上形成蚀刻掩模方法、和具备利用该方法形成的蚀刻掩模的玻璃基板的借助蚀刻的加工方法。在表面具备金属配线、和由有机或无机材料构成的非导电性的被膜的玻璃基板上形成蚀刻掩模之前，对该玻璃基板，分别实施规定的亲液化处理、碱金属除去处理、和疏水化处理。

主权项

1.一种玻璃基板的前处理方法，是在使用抗蚀剂组合物利用光刻法在玻璃基板的表面形成蚀刻掩模前进行的、玻璃基板的前处理方法，所述玻璃基板在表面具备金属配线、和由有机或无机材料构成的非导电性的被膜，在该表面存在露出玻璃的部分、露出所述金属配线的部分和露出所述被膜的部分，所述玻璃基板含有钠和/或钾，所述前处理方法包括：亲液化工序，对所述玻璃基板的表面，实施针对所述玻璃基板上的露出玻璃的部分的、提高碱金属除去用的处理液的浸润性的亲液化处理；碱金属除去工序，在所述亲液化工序后，使所述玻璃基板的表面与所述碱金属除去用的处理液接触，实施使所述玻璃基板的表面的露出玻璃的部分的表层的碱金属量减少的碱金属除去处理；以及疏水化工序，在所述碱金属除去工序后，对所述玻璃基板的表面，实施使所述玻璃基板的表面疏水化的疏水化处理，所述碱金属除去用的处理液是含有酸或螯合剂的处理液，实施了所述碱金属除去处理的所述玻璃基板上的露出玻璃的部分的、从表面到深度10μm的表层的钠与钾的元素成分比率的合计为13质量％以下。