[发明专利]一种阵列基板及其显示面板的制备方法、掩膜板有效

专利信息
申请号: 201510106454.1 申请日: 2015-03-11
公开(公告)号: CN104635419B 公开(公告)日: 2019-05-24
发明(设计)人: 白金超;刘耀;刘晓伟;丁向前;郭总杰 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: G03F1/54 分类号: G03F1/54;H01L21/77;G03F1/60;G02F1/13
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种阵列基板及其显示面板的制备方法、掩膜板,所述掩膜板包括基板,所述基板包括非透光区域、部分透光区域和透光区域,所述非透光区域上设置有非透光材料层,所述部分透光区域上设置有部分透光材料层,所述透光区域不设置遮光材料,所述透光区域设置在所述部分透光区域内,或者所述非透光区域设置在所述部分透光区域内。本发明提供的掩膜板能够实现栅极掩膜板与过孔掩膜板共用,从而减少了掩膜板的使用数量,降低了产品开发和生产成本。
搜索关键词: 一种 阵列 及其 显示 面板 制备 方法 掩膜板
【主权项】:
1.一种掩膜板,其特征在于,包括基板,所述基板包括非透光区域、部分透光区域和透光区域,所述非透光区域上设置有非透光材料层,所述部分透光区域上设置有部分透光材料层,所述透光区域不设置遮光材料,所述透光区域设置在所述部分透光区域内,或者所述非透光区域设置在所述部分透光区域内;当所述透光区域设置在所述部分透光区域内时,所述透光区域和部分透光区域用于通过对负性光刻胶进行曝光显影后刻蚀形成栅线、栅极和公共电极线,所述透光区域还用于通过对正性光刻胶进行曝光显影后刻蚀形成第一过孔和第二过孔;或者当所述非透光区域设置在所述部分透光区域内时,所述非透光区域和部分透光区域用于通过对正性光刻胶进行曝光显影后刻蚀形成栅线、栅极和公共电极线,所述非透光区域还用于通过对负性光刻胶进行曝光显影后刻蚀形成第一过孔和第二过孔。
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