[发明专利]厚膜导体形成用组合物以及使用其获得的厚膜导体有效

专利信息
申请号: 201510111408.0 申请日: 2015-03-13
公开(公告)号: CN105047251B 公开(公告)日: 2018-11-16
发明(设计)人: 石山直希 申请(专利权)人: 住友金属矿山株式会社
主分类号: H01B1/22 分类号: H01B1/22
代理公司: 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 代理人: 刘淼
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种厚膜导体形成用组合物以及使用其获得的厚膜导体。该厚膜导体形成用组合物的耐焊料腐蚀性高并且不含铅,并且在制造芯片电阻器、电阻网络以及混合集成电路等时,该组合物为了在陶瓷基板等上形成厚膜导体而使用。本发明提供一种厚膜导体形成用组合物等,其包含导电粉末(B)、氧化物粉末(A)以及有机载体(C),其特征在于,氧化物粉末(A)包含SiO2‑ZnO‑MgO‑Al2O3类玻璃粉末(A1)和Al2O3粉末(A2)。
搜索关键词: 导体 形成 组合 以及 使用 获得
【主权项】:
1.一种厚膜导体形成用组合物,其包含导电粉末(B)、氧化物粉末(A)以及有机载体(C),其特征在于,氧化物粉末(A)包含SiO2‑ZnO‑MgO‑Al2O3类玻璃粉末(A1)和Al2O3粉末(A2),其中,玻璃粉末(A1)的组成比为SiO2:15~35质量%、ZnO:15~35质量%、MgO:5~25质量%、Al2O3:5~20质量%的范围,并且,相对于100质量份导电粉末(B),氧化物粉末(A)的含量为:玻璃粉末(A1)为1.5~12质量份,Al2O3粉末(A2)为0.1~8质量份。
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