[发明专利]厚膜导体形成用组合物以及使用其获得的厚膜导体有效
申请号: | 201510111408.0 | 申请日: | 2015-03-13 |
公开(公告)号: | CN105047251B | 公开(公告)日: | 2018-11-16 |
发明(设计)人: | 石山直希 | 申请(专利权)人: | 住友金属矿山株式会社 |
主分类号: | H01B1/22 | 分类号: | H01B1/22 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人: | 刘淼 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种厚膜导体形成用组合物以及使用其获得的厚膜导体。该厚膜导体形成用组合物的耐焊料腐蚀性高并且不含铅,并且在制造芯片电阻器、电阻网络以及混合集成电路等时,该组合物为了在陶瓷基板等上形成厚膜导体而使用。本发明提供一种厚膜导体形成用组合物等,其包含导电粉末(B)、氧化物粉末(A)以及有机载体(C),其特征在于,氧化物粉末(A)包含SiO2‑ZnO‑MgO‑Al2O3类玻璃粉末(A1)和Al2O3粉末(A2)。 | ||
搜索关键词: | 导体 形成 组合 以及 使用 获得 | ||
【主权项】:
1.一种厚膜导体形成用组合物,其包含导电粉末(B)、氧化物粉末(A)以及有机载体(C),其特征在于,氧化物粉末(A)包含SiO2‑ZnO‑MgO‑Al2O3类玻璃粉末(A1)和Al2O3粉末(A2),其中,玻璃粉末(A1)的组成比为SiO2:15~35质量%、ZnO:15~35质量%、MgO:5~25质量%、Al2O3:5~20质量%的范围,并且,相对于100质量份导电粉末(B),氧化物粉末(A)的含量为:玻璃粉末(A1)为1.5~12质量份,Al2O3粉末(A2)为0.1~8质量份。
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