[发明专利]一种蚀刻用铜合金框架材料带材及其制备方法有效
申请号: | 201510116356.6 | 申请日: | 2015-03-17 |
公开(公告)号: | CN104726744A | 公开(公告)日: | 2015-06-24 |
发明(设计)人: | 陈清香;张文芹;张斌;张晓敏;樊华丽;孟培一;王全仁;韩彩香;朱永杰;郑小英 | 申请(专利权)人: | 太原晋西春雷铜业有限公司 |
主分类号: | C22C9/06 | 分类号: | C22C9/06;C22F1/08 |
代理公司: | 太原科卫专利事务所(普通合伙) 14100 | 代理人: | 朱源;张宏 |
地址: | 030008 山西*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | 本发明涉及一种具有低残余内应力的蚀刻用铜合金框架材料带材,它由以下合金成分制成,Ni2.2-4.2%;Si0.25-1.2%;Mg0.05-0.30%;Fe0.01-0.2%;Mn0.002-0.01%;Zn0.005-0.015%,其余为Cu。将合金成分混合均匀后进行铸造,铸锭经热轧后冷却淬火,热轧开始温度为850-1000℃,最后温度为700-800℃,轧后带坯以10-30℃/s的冷却速度进行淬火;再经过三次退火、拉矫和低温热处理得到产品。本发明通过选用适当的合金成分配比,通过控制热轧、淬火温度、时效热处理制度、拉矫及低温热处理工艺,达到降低带材内部残余应力的目的。 | ||
搜索关键词: | 一种 蚀刻 铜合金 框架 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种蚀刻用铜合金框架材料带材,其特征在于:它由以下合金成分制成,Ni2.2‑4.2%;Si0.25‑1.2%;Mg0.05‑0.30%;Fe0.01‑0.2%;Mn0.002‑0.01%;Zn0.005‑0.015%,其余为Cu。
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