[发明专利]渐变折射率材料制备方法有效
| 申请号： | 201510116902.6 | 申请日： | 2015-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN104678461A | 公开（公告）日： | 2015-06-03 |
| 发明（设计）人： | 奚衍罡;陈小源;李玉磊 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海高等研究院 |
| 主分类号： | G02B1/00 | 分类号： | G02B1/00;G02B1/10;G02B5/00 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 201210 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种渐变折射率材料制备方法，包括步骤：提供一基底，采用掠入射角镀膜或者化学腐蚀方式在所述基底表面镀渐变折射率层，所述渐变折射率层是以传统光学材料为基础，通过改变结构中材料与空隙的体积比，从而调节所述渐变折射率层的有效折射率。本发明采用掠入射角镀膜的方法制备渐变折射率材料并采用该材料形成新型高效光学结构。由于采用渐变折射率材料，新型的光学结构的光学性能更好，同时能够有效的和不同的衬底或基板集成，显著降低生产成本，提高该器件的光学性能，促进该光学结构的应用。 | ||
| 搜索关键词： | 渐变 折射率 材料 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种渐变折射率材料制备方法，其特征在于，所述制备方法至少包括：提供一基底，采用掠入射角镀膜或者化学腐蚀方式在所述基底表面镀渐变折射率层，所述渐变折射率层是以传统光学材料为基础，通过改变结构中材料与空隙的体积比，从而调节所述渐变折射率层的有效折射率。
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