[发明专利]利用SiO2膜测量微纳长度的系统及方法有效
申请号: | 201510120868.X | 申请日: | 2015-03-17 |
公开(公告)号: | CN104713485B | 公开(公告)日: | 2017-06-16 |
发明(设计)人: | 许筱晓;许兆棠;张恒 | 申请(专利权)人: | 许筱晓;许兆棠;张恒 |
主分类号: | G01B11/02 | 分类号: | G01B11/02;G01B11/06;G01J9/02;H01L21/66 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 223005*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了利用SiO2膜测量微纳长度的系统及方法,光源(1)在透镜(2)的上方,倾斜的指示光栅分光板(3)和标尺光栅分光板(12)在透镜(2)的下方,指示光栅SiO2膜(4)和标尺光栅SiO2膜(5)分别在指示光栅分光板(3)和标尺光栅分光板(12)的下方,指示光栅分光板(3)、标尺光栅分光板(12)和光敏元件阵(11)依次排列,光敏元件阵(11)、辨向电路(9)和计算机(8)通过电线(10)依次连接;标尺光栅SiO2膜(5)固定在工作台(6)上,压电陶瓷(7)靠在工作台(6)的侧面。本发明用于SiO2膜的厚度的测量中检验光的波长和测量SiO2膜的厚度,还用于微纳制造中测量工作台的微纳长度的移动量。 | ||
搜索关键词: | 利用 sio2 测量 长度 系统 方法 | ||
【主权项】:
利用SiO2膜测量微纳长度的系统,其特征在于:利用SiO2膜测量微纳长度的系统包括光源(1)、透镜(2)、指示光栅分光板(3)、指示光栅SiO2膜(4)、标尺光栅SiO2膜(5)、工作台(6)、压电陶瓷(7)、计算机(8)、辨向电路(9)、电线(10)、光敏元件阵(11)和标尺光栅分光板(12);光源(1)在透镜(2)的上方,光源(1)通过光线(13)与透镜(2)连接;倾斜的指示光栅分光板(3)和标尺光栅分光板(12)在透镜(2)的下方,透镜(2)通过光线(13)分别与指示光栅分光板(3)和标尺光栅分光板(12)连接;指示光栅SiO2膜(4)和标尺光栅SiO2膜(5)分别在指示光栅分光板(3)和标尺光栅分光板(12)的下方,指示光栅SiO2膜(4)通过光线(13)与指示光栅分光板(3)连接,标尺光栅SiO2膜(5)通过光线(13)与标尺光栅分光板(12)连接;指示光栅分光板(3)、标尺光栅分光板(12)和光敏元件阵(11)依次排列,光线(13)将指示光栅分光板(3)、标尺光栅分光板(12)和光敏元件阵(11)依次连接;光敏元件阵(11)、辨向电路(9)和计算机(8)通过电线(10)依次连接;标尺光栅SiO2膜(5)固定在工作台(6)上,压电陶瓷(7)靠在工作台(6)的侧面。
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