[发明专利]弹性膜、基板保持装置及研磨装置有效
| 申请号： | 201510136596.2 | 申请日： | 2015-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN104942704B | 公开（公告）日： | 2018-10-02 |
| 发明（设计）人： | 福岛诚;安田穗积;並木计介;锅谷治;富樫真吾;山木晓;矶野慎太郎 | 申请（专利权）人： | 株式会社荏原制作所 |
| 主分类号： | B24B37/30 | 分类号： | B24B37/30;B24B37/10;H01L21/687 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 梅高强;刘煜 |
| 地址： | 日本国东京都*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种可在晶片边缘部的狭窄区域精密调整研磨剖面的弹性膜。弹性膜(10)具备：抵接于基板的抵接部(11)；从抵接部(11)周端部向上方延伸的第一边缘周壁(10h)；及具有连接于第一边缘周壁(10h)的内周面(101)的水平部(111)的第二边缘周壁(10g)，第一边缘周壁(10h)的内周面(101)具有相对抵接部(11)垂直延伸的上侧内周面(101a)及下侧内周面(101b)，上侧内周面(101a)从第二边缘周壁(10g)的水平部(111)向上方延伸，下侧内周面(101b)从第二边缘周壁(10g)的水平部(111)向下方延伸。 | ||
| 搜索关键词： | 弹性 保持 装置 研磨 | ||
【主权项】：
1.一种弹性膜，用于基板保持装置，其特征在于，具备：抵接部，该抵接部抵接于基板，并将该基板按压于研磨垫；第一边缘周壁，该第一边缘周壁从所述抵接部的周端部向上方延伸；及第二边缘周壁，该第二边缘周壁具有连接于所述第一边缘周壁的内周面的水平部，所述第一边缘周壁的内周面具有相对所述抵接部垂直延伸的上侧内周面及下侧内周面，所述上侧内周面及所述水平部的上表面形成第一边缘压力室，所述下侧内周面及所述水平部的下表面形成第二边缘压力室，从所述第二边缘压力室隔离所述第一边缘压力室，所述第一边缘压力室配置于所述第二边缘压力室的上方，所述上侧内周面从所述第二边缘周壁的所述水平部向上方延伸，所述下侧内周面从所述第二边缘周壁的所述水平部向下方延伸，所述上侧内周面及所述下侧内周面处于同一面内。
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