[发明专利]一种灰阶掩膜版及利用其制造液晶显示器的方法

摘要

本发明提出一种灰阶掩膜版及利用该掩膜版制造液晶显示器的方法，该掩膜版包括遮光区和与所述的遮光区相邻的过渡区，所述的过渡区位于所述的掩膜版的边缘位置，定义遮光区与过渡区顺序展开的方向为长度方向，与长度方向垂直的方向为宽度方向，所述的过渡区包括若干交错分布的遮光条和透光狭缝，所述的遮光条的宽度向外呈线性递减排列，所述的透光狭缝的宽度小于曝光机能够分辨的最小尺寸。本发明通过设置一种具有过渡区的掩膜版，使光在过渡区产生衍射效应，实现过渡区透过光的强度渐变的光刻机制，消除了由于不同膜层具有高度差边缘曝光阴影区域残留问题，保证了膜层厚度连续变化，不发生断裂。

主权项

一种灰阶掩膜版，其特征在于：该掩膜版包括遮光区和与所述的遮光区相邻的过渡区，所述的过渡区位于所述的掩膜版的边缘位置，定义遮光区与过渡区顺序展开的方向为长度方向，与长度方向垂直的方向为宽度方向，所述的过渡区包括若干交错分布的遮光条和透光狭缝，所述的遮光条的宽度向外呈线性递减排列，所述的透光狭缝的宽度小于曝光机能够分辨的最小尺寸。