[发明专利]一种连续可变型基片集成波导模拟移相器有效
申请号: | 201510138403.7 | 申请日: | 2015-03-27 |
公开(公告)号: | CN104716408B | 公开(公告)日: | 2017-04-05 |
发明(设计)人: | 彭浩;肖龙;杨涛;朱建中;王勇 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01P1/185 | 分类号: | H01P1/185 |
代理公司: | 电子科技大学专利中心51203 | 代理人: | 张杨 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明专利涉及微波电路技术,特别涉及一种连续可变型的基片集成波导模拟移相器。包括50Ω特征阻抗微带线、变容二极管、过渡结构、基片集成波导和外围电阻电容电感;输入端为50Ω特征阻抗的微带线,信号再经过渡结构馈到基片集成波导。在SIW中,沿电磁场传播方向开一条槽,此槽线将SIW分为两个部分,包含过渡结构一侧的SIW宽度为W,另一侧宽度为C,过渡结构为凹陷的矩形。将变容二极管和固定容值电容成对垂直于SIW安装在槽线两侧。该移相器的相位变化随调谐电压连续可变,带宽较宽,传输损耗小,反射系数小,移相范围大,方便集成在电路中。 | ||
搜索关键词: | 一种 连续 变型 集成 波导 模拟 移相器 | ||
【主权项】:
一种连续可变型的基片集成波导模拟移相器,包括50Ω特征阻抗微带线、变容二极管、过渡结构、基片集成波导SIW和外围电阻电容电感,其特征在于:输入端为50Ω特征阻抗的微带线,信号再经过渡结构馈到基片集成波导;在工作于全模模式的SIW结构中,沿电磁场传播方向开一条槽,槽长与SIW长度相同,宽度s≤1.5mm;此槽线将基片集成波导分为两个部分,包含过渡结构一侧的SIW宽度为W,另一侧宽度为C,过渡结构为凹陷的矩形,其沿电磁场传播方向的长度1/3W≤lx≤2/3W,另一边长度1/5W≤ly≤2/3W;将变容二极管和固定容值电容成对垂直于SIW分别安装在槽线两侧,并且两者连线与槽线垂直,每对变容二极管VCD和固定容值电容Cm的中心距离s<lt≤2mm,相邻两对变容二极管和固定容值电容之间的距离5mm≤ls≤10mm;外围电阻电容电感:变容二极管的正极用焊锡在槽线一侧接地,固定容值电容Cm的一端用焊锡在槽线另一侧接地,变容二极管的负极和Cm的另一端通过焊锡连在一起,而后经过导线分别与扼流电感Ln和限流电阻Rn串联,同时与去耦电容Cn并联接地,其中Cm容值大于变容二极管最大容值100倍。
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