[发明专利]用于多晶硅还原炉的底盘组件在审
申请号: | 201510140179.5 | 申请日: | 2015-03-27 |
公开(公告)号: | CN104724709A | 公开(公告)日: | 2015-06-24 |
发明(设计)人: | 姚心;汪绍芬 | 申请(专利权)人: | 中国恩菲工程技术有限公司 |
主分类号: | C01B33/03 | 分类号: | C01B33/03 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋合成 |
地址: | 100038*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于多晶硅还原炉的底盘组件,所述用于多晶硅还原炉的底盘组件包括:底盘本体,所述底盘本体内限定有从所述底盘本体的中心处旋向所述底盘本体的边缘处的四个螺旋流道,所述底盘本体上设有分别与四个所述螺旋流道连通的至少四个冷却液进口和至少四个冷却液出口,所述至少四个冷却液进口的圆心与所述底盘本体的圆心距离相等;多个电极座,多个所述电极座设置在所述底盘本体上;多个进气管和多个排气管,多个所述进气管和多个所述排气管设置在所述底盘本体上。根据本发明实施例的用于多晶硅还原炉的底盘组件具有冷却液流动阻力小、冷却效果好、径向温度分布均匀、不易产生温差应力和变形等优点。 | ||
搜索关键词: | 用于 多晶 还原 底盘 组件 | ||
【主权项】:
一种用于多晶硅还原炉的底盘组件,其特征在于,包括:底盘本体,所述底盘本体内限定有从所述底盘本体的中心处旋向所述底盘本体的边缘处的四个螺旋流道,所述底盘本体上设有分别与四个所述螺旋流道连通的至少四个冷却液进口和至少四个冷却液出口,所述至少四个冷却液进口的圆心与所述底盘本体的圆心距离相等;多个电极座,多个所述电极座设置在所述底盘本体上;多个进气管和多个排气管,多个所述进气管和多个所述排气管设置在所述底盘本体上。
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