[发明专利]一种基于控制背景辐射的黑体发射率测量装置及方法在审
| 申请号： | 201510141022.4 | 申请日： | 2015-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN104833429A | 公开（公告）日： | 2015-08-12 |
| 发明（设计）人： | 郝小鹏;宋健;原遵东;刘曾林;许敏 | 申请（专利权）人： | 中国计量科学研究院 |
| 主分类号： | G01J5/00 | 分类号： | G01J5/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种基于控制背景辐射的黑体发射率测量装置及方法，所述测量装置包括：一待测黑体；一热辐射环，所述热辐射环位于所述待测黑体的开口一侧；一红外辐射温度计，所述红外辐射温度计测量采集到的辐射信号，在所述热辐射环与所述红外辐射温度计之间设置有水冷光阑，所述水冷光阑用于降低杂散辐射。本发明通过基于控制背景辐射的黑体发射率测量装置，分析了热辐射环温度和黑体温度变化对测量结果的影响，验证了该方法应用于星载定标黑体发射率在轨校准的可行性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 控制 背景 辐射 黑体 发射 测量 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种基于控制背景辐射的黑体发射率测量装置，其包括：一待测黑体；一热辐射环，所述热辐射环位于所述待测黑体的开口一侧；一红外辐射温度计，所述红外辐射温度计测量采集到的辐射信号，其特征在于：在所述热辐射环与所述红外辐射温度计之间设置有水冷光阑，所述水冷光阑用于降低杂散辐射。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国计量科学研究院，未经中国计量科学研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510141022.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：具有自动位置修正的压力测量装置
- 下一篇：液体温度处理系统及方法
