[发明专利]一种具有表面粗化结构的三结GaAs太阳电池的制备方法有效

专利信息
申请号: 201510143508.1 申请日: 2015-03-30
公开(公告)号: CN104733556B 公开(公告)日: 2017-02-01
发明(设计)人: 李俊承;韩效亚;杨凯;林洪亮;徐培强;白继峰;张双翔;王英 申请(专利权)人: 扬州乾照光电有限公司
主分类号: H01L31/0687 分类号: H01L31/0687;H01L31/0693;H01L31/0216;H01L31/0236;H01L31/18
代理公司: 扬州市锦江专利事务所32106 代理人: 江平
地址: 225009 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种具有表面粗化结构的三结GaAs太阳电池及其制备方法,涉及多结太阳能电池制备技术领域,对主电极之间的AlGaInP粗化层进行粗化,在粗化后的AlGaInP粗化层表面制作减反射膜。本发明采用倒装结构电池,提高太阳电池的开路电压,电池效率能够达到31.5%~32%,在电池受光面作出粗化图形,并且通过导电的Si衬底与电极使整个结构为电流垂直结构,在保持上下导通的基础上可以直接应用于目前成熟的封装技术,并且适用于不同形状的组件。本发明提高了整个电池的短路电流密度,短路电流密度Jsc可以达到17.5mA/cm2。
搜索关键词: 一种 具有 表面 结构 gaas 太阳电池 制备 方法
【主权项】:
一种具有表面粗化结构的三结GaAs太阳电池的制备方法,在Si衬底一侧设置背电极,在Si衬底另一侧通过接触层设置由底电池、中电池和顶电池构成的外延片,主电极通过图形化的接触层设置在顶电池上,在外延片的顶电池外设置表面粗化层,在表面粗化层上设置减反射膜,所述具有表面粗化结构的三结GaAs太阳电池的制备方法,其特征在于包括以下步骤:1)在临时衬底上制备由底电池、中电池和顶电池构成的电池外延片:在GaAs临时衬底上面,依次生长N型GaAs的缓冲层、GaInP腐蚀截止层、N型GaAs接触层、AlGaInP粗化层、GaInP顶电池、第一隧穿结、GaAs中电池、第二隧穿结、InGaAs底电池和P型GaAs接触层;2)准备转移Si衬底:选取导电类型为P型的转移Si衬底,经清洗备用;3)在电池外延片的底电池背部和转移Si衬底正面,分别通过电子束依次蒸镀Ti、Pt和Au层,再将电池外延片与转移Si衬底进行金属键合;4)采用碱性腐蚀液去除金属键合后的电池外延结构上的临时衬底;5)在顶电池上制备主电极,在转移Si衬底上制备背电极;6)对主电极之间的AlGaInP粗化层进行粗化;7)在粗化后的AlGaInP粗化层表面制作减反射膜。
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