[发明专利]具有窗口的软性且可修整的化学机械抛光垫有效
申请号: | 201510144406.1 | 申请日: | 2015-03-30 |
公开(公告)号: | CN104942700B | 公开(公告)日: | 2017-09-12 |
发明(设计)人: | 钱百年;M·W·德格鲁特;M·K·詹森;J·穆奈恩;J·J·亨道恩;J·G·诺兰;D·B·詹姆斯;叶逢蓟 | 申请(专利权)人: | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司;陶氏环球技术有限公司 |
主分类号: | B24B37/20 | 分类号: | B24B37/20;B24B37/24;B24B37/04 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 陈哲锋,江磊 |
地址: | 美国特*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种化学机械抛光垫,其具有抛光层以及结合至所述抛光层中的窗口;其中所述抛光层包括以下成分的反应产物,所述成分包括抛光层预聚物以及抛光层固化剂体系,所述抛光层固化剂体系包括抛光层胺引发的多元醇固化剂、抛光层高分子量多元醇固化剂以及抛光层双官能的固化剂;其中所述窗口包括以下成分的反应产物,所述成分包括窗口预聚物以及窗口固化剂体系;其中所述窗口固化剂体系包括窗口双官能的固化剂、窗口胺引发的多元醇固化剂以及窗口高分子量多元醇固化剂;以及,其中所述抛光层的密度≥0.6g/cm3、肖氏D硬度为5‑40、断裂伸长率为100‑450%、以及切割速率为25‑150μm/hr。 | ||
搜索关键词: | 具有 窗口 软性 修整 化学 机械抛光 | ||
【主权项】:
一种化学机械抛光垫,其包括:抛光层,所述抛光层具有抛光表面、底表面和平均厚度TP‑平均,该厚度是在垂直于所述抛光表面的方向上从所述抛光表面测量到所述底表面得到的;以及结合至所述抛光层中的终点检测窗口;其中所述抛光层包括以下成分的反应产物,所述成分包括以下抛光层预聚物和抛光层固化剂体系:抛光层预聚物,其中所述抛光层预聚物选自具有2‑12重量%未反应的NCO基团的异氰酸酯封端的氨基甲酸酯预聚物,以及抛光层固化剂体系,所述抛光层固化剂体系包含:至少5重量%抛光层胺引发的多元醇固化剂,所述抛光层胺引发的多元醇固化剂每个分子具有至少一个氮原子并且每个分子平均具有至少三个羟基;25‑95重量%的抛光层高分子量多元醇固化剂,所述抛光层高分子量多元醇固化剂的数均分子量MN为2,500‑100,000,并且每个分子平均具有3‑10个羟基;以及0‑70重量%的抛光层双官能的固化剂;其中所述终点检测窗口包括以下成分的反应产物,所述成分包括以下窗口预聚物和窗口固化剂体系:窗口预聚物,其中所述窗口预聚物选自具有2‑6.5重量%的未反应的NCO基团的异氰酸酯封端的氨基甲酸酯预聚物,以及窗口固化剂体系,所述窗口固化剂体系包含:至少5重量%的窗口双官能的固化剂;至少5重量%的窗口胺引发的多元醇固化剂,所述窗口胺引发的多元醇固化剂每个分子具有至少一个氮原子并且每个分子平均具有至少三个羟基;以及25‑90重量%的窗口高分子量多元醇固化剂,所述窗口高分子量多元醇固化剂的数均分子量MN为2,000‑100,000,并且每个分子平均具有3‑10个羟基;其中所述抛光层的密度≥0.6g/cm3、肖氏D硬度为5‑40、断裂伸长率为100‑450%、以及切割速率为25‑150μm/hr。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司;陶氏环球技术有限公司,未经罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司;陶氏环球技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510144406.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。