[发明专利]清洗装置及清洗方法在审
| 申请号： | 201510151490.X | 申请日： | 2015-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN104971916A | 公开（公告）日： | 2015-10-14 |
| 发明（设计）人： | 石桥知淳 | 申请（专利权）人： | 株式会社荏原制作所 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B13/00;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 陈伟;王娟娟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一边向旋转的半导体晶片等衬底的表面提供清洗液一边清洗衬底的清洗装置中，通过使清洗液在衬底的整个半径流动而使清洗度提高。清洗装置具有：保持衬底(W)并将衬底(W)的中心轴作为旋转轴而使衬底(W)旋转的多根主轴(51)；朝向衬底(W)的上表面排出清洗液(L)的单管喷嘴(41)，单管喷嘴(41)以清洗液(L)着落于衬底W的中心(O)的近前，着落的清洗液(L)在衬底(W)的上表面朝向衬底(W)的中心流动的方式排出清洗液(L)。从单管喷嘴(41)排出的清洗液(L)着落后在衬底(W)的上表面的液流通过衬底(W)的中心(O)。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种清洗装置，其特征在于，具有：保持衬底并以所述衬底的中心轴为旋转轴而使所述衬底旋转的衬底旋转机构；朝向被所述衬底旋转机构保持的所述衬底的上表面排出第1清洗液的第1单管喷嘴，所述第1单管喷嘴以使所述第1清洗液着落于所述衬底的中心的近前，并使着落的所述第1清洗液在所述衬底的上表面朝向所述衬底的中心流动的方式排出所述第1清洗液，从所述第1单管喷嘴排出的所述第1清洗液着落后在所述衬底的上表面的液流通过所述衬底的中心。
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