[发明专利]倒装LED芯片及其形成方法有效

专利信息
申请号: 201510152729.5 申请日: 2015-04-01
公开(公告)号: CN106159043B 公开(公告)日: 2019-12-13
发明(设计)人: 朱秀山;徐慧文;李智勇;朱广敏;余婷婷;张宇;李起鸣 申请(专利权)人: 映瑞光电科技(上海)有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/46
代理公司: 11227 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 高静;骆苏华
地址: 201306 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种倒装LED芯片及其形成方法,形成方法包括:提供衬底;形成N型半导体层、有源层和P型半导体层;形成露出部分N型半导体层的开口;形成P、N电极层、绝缘反射层;形成P、N电极结构。倒装LED芯片包括衬底、N型半导体层、有源层、P型半导体层;P型半导体层上具有P电极层,开口中的N型半导体层上具有N电极层;覆盖于P型半导体层、P电极层、N型半导体层以及N电极层上的绝缘反射层;形成于绝缘反射层中,与P电极层电连接的P电极结构、与N电极层电连接的N电极结构。本发明的有益效果在于,绝缘反射层在起到绝缘隔离的作用的同时,还可以将部分光线反射至衬底,这有利于增加倒装LED芯片的透光率。
搜索关键词: 倒装 led 芯片 及其 形成 方法
【主权项】:
1.一种倒装LED芯片的形成方法,其特征在于,包括:/n提供衬底;/n在所述衬底上依次形成N型半导体层、有源层和P型半导体层;/n在所述P型半导体层以及有源层中形成露出部分N型半导体层的开口;/n在所述P型半导体层上形成功函数大于所述P型半导体层功函数的透明导电层;/n在所述透明导电层上形成功函数大于所述透明导电层功函数的P电极层,其中,所述P电极层的材料为:金属材料,所述P电极层形成在所述透明导电层的表面和侧壁;/n在所述开口中的N型半导体层上形成N电极层,其中,所述P电极层位于所述N电极层的两侧;/n在所述P型半导体层、P电极层、N型半导体层以及N电极层上覆盖绝缘反射层;/n在所述绝缘反射层中形成与所述P电极层电连接的P电极结构,以及与N电极层电连接的N电极结构;/n在所述绝缘反射层、P电极结构以及N电极结构上形成钝化层;/n刻蚀所述钝化层以露出P电极结构、N电极结构;/n在所述钝化层上形成分别对应于所述P电极结构、N电极结构的P引出电极和N引出电极,所述P引出电极和N引出电极之间具有间距。/n
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