[发明专利]一种腔室清洁装置及其控制方法

摘要

本发明涉及一种腔室清洁装置及其控制方法，能够解决曝光机的腔室内部清洁效率低的问题。腔室清洁装置包括用于提供控制信号的控制器、供给设备，以及设置于所述腔室内部的清洁轨道。供给设备设置有第一工位和第二工位，第一工位与输送入口相对应，第二工位与输送出口相对应；供给设备包括至少两个卷轴，以及部分位于清洁轨道上的清洁布，位于第一工位的卷轴与清洁布的一端相连接，用于将清洁布从所述输送入口传送至清洁轨道上，位于第二工位的卷轴与清洁布的另一端相连接，用于将穿过输送出口的清洁布进行收集。

主权项

一种腔室清洁装置，用于对腔室进行清洁，其特征在于，包括用于提供控制信号的控制器、供给设备，以及设置于所述腔室内部的清洁轨道；所述供给设备通过输送入口与所述清洁轨道的起始端相连接，并通过输送出口与所述清洁轨道的末端相连接；所述供给设备设置有第一工位和第二工位，所述第一工位与所述输送入口相对应，所述第二工位与所述输送出口相对应；所述供给设备包括至少两个卷轴，以及部分位于所述清洁轨道上的清洁布，位于所述第一工位的卷轴与所述清洁布的一端相连接，用于将所述清洁布从所述输送入口传送至所述清洁轨道上，位于所述第二工位的卷轴与所述清洁布的另一端相连接，用于将穿过所述输送出口的清洁布进行收集；所述供给设备还包括环形的供给导轨；所述第一工位和所述第二工位设置于所述供给导轨上；所述卷轴安装于所述供给导轨上，并在所述控制器的控制下，沿所述供给导轨进行移动。