[发明专利]导电图形的制作方法及导电膜有效

专利信息
申请号: 201510164153.4 申请日: 2015-04-08
公开(公告)号: CN104851516B 公开(公告)日: 2017-08-25
发明(设计)人: 苏君海;李建;王荣超;任思雨;李建华 申请(专利权)人: 信利(惠州)智能显示有限公司
主分类号: H01B13/00 分类号: H01B13/00;H01B5/14
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 代理人: 吴平
地址: 516000 广东省惠州市仲*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种导电图形的制作方法,其包括如下步骤在基板上形成导电层;在导电层上形成非晶金属氧化物;对非晶金属氧化物的预定区域进行激光退火处理,使预定区域的非晶金属氧化物形成多晶金属氧化物;对预定区域外的非晶金属氧化物进行第一次刻蚀处理,以除去预定区域外的非晶金属氧化物;对预定区域外的导电层进行第二次刻蚀处理,形成导电图形。与现有技术相比,上述导电图形的制作方法减少了涂胶、曝光、显影、脱膜等一系列工艺流程,缩短了生产周期,节约了生产时间,降低了生产成本,而且实现了在不使用曝光掩膜板的条件下的产品生产,减少了物料的耗损及设备的投入,避免了有机试剂的使用,并减少了对环境的污染。本发明还提供一种导电膜。
搜索关键词: 导电 图形 制作方法
【主权项】:
一种导电图形的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:在基板上形成导电层;在所述导电层上形成非晶金属氧化物;对所述非晶金属氧化物的预定区域进行激光退火处理,使所述预定区域的非晶金属氧化物形成多晶金属氧化物;对预定区域外的非晶金属氧化物进行第一次刻蚀处理,以除去所述预定区域外的所述非晶金属氧化物;对所述预定区域外的导电层进行第二次刻蚀处理,形成导电图形。
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