[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示面板和显示装置在审

专利信息
申请号: 201510166166.5 申请日: 2015-04-09
公开(公告)号: CN104867877A 公开(公告)日: 2015-08-26
发明(设计)人: 肖丽;王强涛 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L21/84 分类号: H01L21/84;H01L21/34;H01L29/786;H01L27/12
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明的实施例公开一种阵列基板及其制作方法、显示面板和显示装置,涉及显示技术领域,能够减少显示面板的制作工序。该阵列基板包括:衬底基板,位于所述衬底基板上的栅线和栅极;覆盖所述栅线和栅极的绝缘层;在绝缘层上对应所述栅极的位置的有源层;所述有源层上方的蚀阻挡层,其中所述刻蚀阻挡层为遮光材料,所述刻蚀阻挡层对应像素电极的位置镂空,所述刻蚀阻挡层包括位于所述有源层上方的第一过孔和第二过孔;所述刻蚀阻挡层上的数据线、源极和漏极,其中所述源极通过第一过孔与所述有源层连接,所述漏极通过所述第二过孔与所述有源层连接,所述源极还连接所述数据线,所述漏极连接像素电极层。
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制作方法 显示 面板 显示装置
【主权项】:
一种阵列基板的制作方法,其特征在于,包括:在衬底基板上形成栅线和栅极;形成覆盖所述栅线和栅极的绝缘层;在绝缘层上对应所述栅极的位置形成有源层;通过一次构图工艺形成覆盖所述有源层的刻蚀阻挡层,所述刻蚀阻挡层为遮光材料,其中所述刻蚀阻挡层对应像素电极的位置镂空,所述刻蚀阻挡层包括位于所述有源层上方的第一过孔和第二过孔;在所述刻蚀阻挡层上形成导电材料层,并通过一次构图工艺在所述刻蚀阻挡层上形成数据线、源极和漏极,其中所述源极通过第一过孔与所述有源层连接,所述漏极通过所述第二过孔与所述有源层连接,所述源极还连接所述数据线,所述漏极连接像素电极。
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