[发明专利]图案形成方法、硬化物、触摸屏或显示屏的制造方法以及显示装置在审

专利信息
申请号: 201510170283.9 申请日: 2015-04-10
公开(公告)号: CN104977813A 公开(公告)日: 2015-10-14
发明(设计)人: 中村秀之;金子若彦;柏木大助;山下史絵 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F7/00
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 杨贝贝;臧建明
地址: 日本东京港区*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种抑制缺损的产生、图案形状良好、且抑制底切的产生的图案形成方法、硬化物、触摸屏或显示屏的制造方法、及显示装置。本发明的图案形成方法包括:将感光性树脂组合物涂布在基板上的工序、从所涂布的感光性树脂组合物中除去溶剂的工序、使用掩模利用活性辐射线进行曝光的曝光工序、及利用水性显影液进行显影的显影工序,关于曝光工序中所用的掩模,沿着第一遮光部图案的外边而平行地设置第二遮光部图案,第二遮光部图案将第一遮光部图案包围一周,第一遮光部图案的外边与第二遮光部图案的内边的距离A、和第二遮光部图案的内边与外边的宽度B的关系满足0.5≤B/A≤0.75,且第二遮光部图案的内边与外边的宽度B为1μm~10μm。
搜索关键词: 图案 形成 方法 硬化 触摸屏 显示屏 制造 以及 显示装置
【主权项】:
一种图案形成方法,其特征在于包括:将感光性树脂组合物涂布在基板上的涂布工序、从所涂布的感光性树脂组合物中除去溶剂的溶剂除去工序、使用掩模利用活性辐射线进行曝光的曝光工序、及利用水性显影液进行显影的显影工序,并且所述曝光工序中所用的掩模,沿着第一遮光部图案的外边而平行地设置第二遮光部图案,所述第二遮光部图案将所述第一遮光部图案包围一周,所述第一遮光部图案的外边与所述第二遮光部图案的内边的距离A、与所述第二遮光部图案的内边与外边的宽度B的关系满足下述式I,且所述第二遮光部图案的内边与外边的宽度B为1μm~10μm,0.5≤B/A≤0.75   式I。
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