[发明专利]一种太阳能用耐高温低发射膜层及制作方法有效
申请号: | 201510174523.2 | 申请日: | 2015-04-14 |
公开(公告)号: | CN104894519B | 公开(公告)日: | 2017-12-08 |
发明(设计)人: | 闵繁皓;闵庆喜;张令洪 | 申请(专利权)人: | 山东光普太阳能工程有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/06;C23C14/18;F24J2/46;F24J2/48 |
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地址: | 277500 *** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明的第一个目的在于提供一种太阳能用耐高温膜层,包括基体、粘结层、金属层、高吸收层、低吸收层及减反层。粘结层均匀的覆盖在基体上,金属层均匀的覆盖在粘结层上,高吸收层均匀的覆盖在金属层上,低吸收层均匀的覆盖在高吸收层上,减反层均匀的覆盖在低吸收层上。本发明的第二个目的在于提供一种上述太阳能用耐高温膜层的生产方法。本发明采用磁控溅射镀膜技术,采用四靶镀膜,包括铝靶、铜靶和镍靶,通过在氩气和氮气中溅射形成干涉膜层。所形成的膜层可耐高温500℃,在500℃下衰减2000h不超过4%,吸收最高为96%,发射最低为5%,该种膜层可应用到太阳能中高温中槽式真空管和镀膜钢管上。 | ||
搜索关键词: | 一种 太阳 能用 耐高温 发射 制作方法 | ||
【主权项】:
一种太阳能用耐高温低发射膜层,它包括基体、粘结层、金属层、高吸收层、低吸收层及减反层,粘结层均匀的覆盖在基体上,金属层均匀的覆盖在粘结层上,高吸收层均匀的覆盖在金属层上,低吸收层均匀的覆盖在高吸收层上,减反层均匀的覆盖在低吸收层上,基体为耐高温金属基体,粘结层为陶瓷层,所述金属层为铜金属层,高吸收层为氮化铝与镍混合机膜层,低吸收层为氮化铝与镍混合机膜层,减反层为氮化铝膜层,其特征在于:所述太阳能用耐高温低发射膜层的生产方法包括以下步骤:A.对耐高温金属基体进行抛光处理:用抛光机进行抛光处理,去除表面凹坑及划伤,粗糙度达到镜面;B.对耐高温金属基体进行清洁处理:利用超声波清洗机,加入去离子水进行超声波清洗,去除表面油污及附着在表面的灰尘;C.对耐高温金属基体进行去水:利用无水乙醇擦拭不锈钢基体表面,快速去除表面残留水;D.对耐高温金属基体进行氧化处理:将去水后的不锈钢基体放入烘干箱,并在400 摄氏度下保温2~3 小时,使耐高温金属基体表面生成一层微金黄色的氧化层;E.对耐高温金属基体进行镀膜:将烘干好的耐高温金属基体放入磁控溅射镀膜机内;将磁控溅射镀膜机的镀膜室真空度抽至4.0×10‑3pa;F.镀粘结层;真空度稳定后,冲入氩气和氮气让压强保持在2.0‑1pa,转架转速每分钟2.5转,起铝靶,开中频电源,在恒流模式下电流为40A,时间1分钟;G.镀金属层:镀膜室充入氩气,起铜靶,开直流电源,电流39 ~ 42A,时间8min,压强2.0 ‑1pa,转架转速2.5 分钟一转;H.镀高吸收层:将氩气和氮气充入镀膜室内,使镀膜室压强保持在4.0‑1pa ,起铝靶,起镍靶,起中频电源,起直流电源,铝靶电流40A,镍靶电流在18 ~21A,时间5min,转架转速一分钟2.5转;I.镀低吸收层:将氩气和氮气充入镀膜室内,使镀膜室压强保持在4.0‑1pa ,起铝靶,起镍靶,起中频电源,起直流电源,铝靶电流40A,镍靶电流在8 ~10A,时间7min,转架转速一分钟2.5转;J.镀减反层:将氩气和氮气充入镀膜室内,使镀膜室压强保持在4.0‑1pa ,起铝靶,起中频电源,铝靶电流40A,时间为12 ~14min。
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