[发明专利]一种显示基板的制作方法、显示基板和显示装置有效

专利信息
申请号: 201510176806.0 申请日: 2015-04-14
公开(公告)号: CN104749816B 公开(公告)日: 2017-11-10
发明(设计)人: 张锋;曹占锋;姚琪 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1333;H01L27/12;G03F7/00
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司11243 代理人: 许静,黄灿
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种显示基板的制作方法、显示基板和显示装置,其中,所述制作方法包括形成黑矩阵的步骤,所述形成黑矩阵的步骤具体包括形成用于制作所述黑矩阵的金属图形,所述金属图形采用两性金属或两性金属合金;采用碱性溶液对所述金属图形进行处理,形成具有粗糙表面的所述黑矩阵。本发明能够形成具有粗糙表面的金属黑矩阵,降低了金属材料的反射率,进一步地,降低了显示面板对外界环境光线的反射率,提高了显示对比度,改善了画面质量。
搜索关键词: 一种 显示 制作方法 显示装置
【主权项】:
一种显示基板的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括形成黑矩阵的步骤,所述形成黑矩阵的步骤具体包括:形成用于制作所述黑矩阵的金属图形,所述金属图形采用两性金属或两性金属合金;采用碱性溶液对所述金属图形进行处理,形成具有粗糙表面的所述黑矩阵;在形成用于制作所述黑矩阵的金属图形之后,所述方法还包括:在未剥离第一光刻胶的所述金属图形上形成第一膜层;剥离所述第一光刻胶,以剥离在所述第一光刻胶上方区域的所述第一膜层;在所述第一膜层余下的部分上涂覆第二光刻胶,并对所述第二光刻胶进行曝光;所述采用碱性溶液对所述金属图形进行处理,形成具有粗糙表面的所述黑矩阵具体为:利用对曝光后的所述第二光刻胶进行显影的碱性显影液对所述金属图形进行处理,形成具有粗糙表面的所述黑矩阵。
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