[发明专利]阵列基板及其制作方法以及显示装置在审

专利信息
申请号: 201510184913.8 申请日: 2015-04-17
公开(公告)号: CN104810374A 公开(公告)日: 2015-07-29
发明(设计)人: 齐永莲;张锋 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362;G02F1/1368
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 李相雨
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种阵列基板及其制作方法以及显示装置,上述方法包括:采用氮化铜形成半导体层;对所述半导体层的第一区域和第二区域进行处理,使其电阻率小于预设值;将所述第一区域和第二区域的处理后的半导体层分别作为源极和漏极;将所述半导体层的第三区域作为有源层。根据本发明的技术方案,可以通过对氮化铜进行掺杂处理,将源极、漏极和有源层制备在同一层中,从而减小阵列基板的厚度,简化阵列基板的制作工艺。
搜索关键词: 阵列 及其 制作方法 以及 显示装置
【主权项】:
一种阵列基板制作方法,其特征在于,包括:采用氮化铜形成半导体层;对所述半导体层的第一区域和第二区域进行处理,使其电阻率小于预设值;将所述第一区域和第二区域的处理后的半导体层分别作为源极和漏极;将所述半导体层的第三区域作为有源层。
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