[发明专利]一种除杂质的铜电解液添加剂及其制备方法在审
| 申请号： | 201510187479.9 | 申请日： | 2015-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN104862736A | 公开（公告）日： | 2015-08-26 |
| 发明（设计）人： | 胡照弟 | 申请（专利权）人： | 郎溪县鑫科金属科技有限公司 |
| 主分类号： | C25C1/12 | 分类号： | C25C1/12 |
| 代理公司： | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 | 代理人： | 方峥 |
| 地址： | 242100 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 一种除杂质的铜电解液添加剂，由下列重量份的原料制成：明胶10-11、纳米茶多酚0.3-0.4、硫脲13-14、水合二氧化锰0.8-1.1、活性炭粉0.2-0.3、去离子水适量、75wt%硫酸3-4。本发明铜电解液添加剂通过使用水合二氧化锰、活性炭粉，能够去除有害于电积铜的杂质元素，砷的去除率达到85%，能够得到砷、锑、铋等杂质含量少的优质阴极铜，符合国家标准，提高了资源利用率；通过添加纳米茶多酚，提高了明胶的抗氧化和抗菌性能，延长了使用时间；本发明生产工艺能够使明胶的粘度保持稳定，不会因粘度过大造成铜箔夹杂明胶，变粗糙的现象。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 杂质 电解液 添加剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种除杂质的铜电解液添加剂，其特征在于由下列重量份的原料制成：明胶10‑11、纳米茶多酚0.3‑0.4、硫脲13‑14、水合二氧化锰0.8‑1.1、活性炭粉0.2‑0.3、去离子水适量、75wt%硫酸3‑4。
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