[发明专利]蚀刻剂和使用该蚀刻剂制造显示装置的方法有效
| 申请号： | 201510187631.3 | 申请日： | 2015-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN105018930B | 公开（公告）日： | 2017-12-08 |
| 发明（设计）人： | 鞠仁说;南基龙;朴英哲;刘仁浩;尹暎晋;李昔准 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C23F1/26;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司11270 | 代理人： | 徐川,姚开丽 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种蚀刻剂和一种使用该蚀刻剂制造显示装置的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 使用 制造 显示装置 方法 | ||
【主权项】：
一种蚀刻剂，包含：0.5wt％～20wt％的过硫酸盐；0.01wt％～2wt％的氟化合物；1wt％～10wt％的无机酸；0.5wt％～5wt％的含氮原子的杂环化合物；0.1wt％～5wt％的氯化合物；0.05wt％～3wt％的铜盐；0.1wt％～10wt％的有机酸或有机酸盐；0.1wt％～5wt％的供电子化合物；以及余量的溶剂，其中，所述供电子化合物包括选自如下化合物中的至少一种：二亚乙基三胺五乙酸、N‑乙酰‑L‑半胱氨酸、L‑甲硫氨酸，以及二亚乙基三胺五乙酸、N‑乙酰‑L‑半胱氨酸和L‑甲硫氨酸的钾盐、钠盐和铵盐。
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