[发明专利]一种快速检测SiO2膜厚及膜层致密性的方法在审
申请号: | 201510188221.0 | 申请日: | 2015-04-20 |
公开(公告)号: | CN104865178A | 公开(公告)日: | 2015-08-26 |
发明(设计)人: | 胡超川;傅强;李加海;朱磊;金艳芳;王丹 | 申请(专利权)人: | 安徽立光电子材料股份有限公司 |
主分类号: | G01N17/00 | 分类号: | G01N17/00 |
代理公司: | 安徽信拓律师事务所 34117 | 代理人: | 鞠翔 |
地址: | 239200 安徽省滁州*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明提供一种快速检测SiO2膜厚及膜层致密性的方法,涉及玻璃检测技术领域,测试方法步骤如下:1)配制比例为HF:HNO3:DI水=2.4%:1.6%:96%,将配置好的酸液存放于塑料杯中;2)将待检测的样片切割成小片,并在其表面平行粘贴两条胶带,制作成台阶,两胶带间距为1mm,胶带沿同一方向压实,要保持台阶边缘平整;3)开启水浴锅加热,将温度设定为30℃,并将盛有酸液的塑料杯放入加热;通过温度计确认酸液的温度达30±2℃;4)将制作好的台阶置于指定温度的酸液中浸泡,检测蚀刻速率时浸泡时间规定为50s、70s、90s、110s。本发明在线生产中可以直接使用生产过程中表观不良玻璃进行测试,无需再次使用油性笔划线制作台阶完成样品,大大提高测试效率,提升产能。 | ||
搜索关键词: | 一种 快速 检测 sio sub 致密 方法 | ||
【主权项】:
一种快速检测SiO2膜厚及膜层致密性的方法,其特征在于,测试方法步骤如下:1)酸液准备选取分析纯,配制比例为HF:HNO3:DI水=2.4%:1.6%:96%,将配置好的酸液存放于塑料杯中;2)台阶制作将待检测的样片切割成小片,并在其表面平行粘贴两条胶带,制作成台阶,两胶带间距为1mm,胶带沿同一方向压实,要保持台阶边缘平整;3)酸液加热开启水浴锅加热,将温度设定为30℃,并将盛有酸液的塑料杯放入加热;通过温度计确认酸液的温度达30±2℃,方可开始实验;温度确认时眼睛视线应垂直于温度计刻度线;4)SiO2膜层致密性评价玻璃SiO2膜层在酸液中反应速率明显慢于玻璃的反应速率,玻璃蚀刻速率为SiO2膜蚀刻速率为将制作好的台阶置于指定温度的酸液中浸泡,检测蚀刻速率时浸泡时间规定为50s、70s、90s、110s,推断SiO2膜厚时实验时间根据实验情况决定,起始时间定为50s,90s内深度≤为合格。
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