[发明专利]保持装置和真空处理装置

摘要

本发明提供一种保持装置和真空处理装置。不向真空环境中排出粘附衬垫的排出气体地对保持对象物进行真空处理。在保持装置（11）的真空容器（15）的内部设置粘附衬垫（17），在将保持对象物（5）粘附保持的状态下，向配置在真空容器（15）的边缘上的接触部（18）按压，使真空容器（15）的内部空间（25）从外部空间（26）分离。预先将真空容器（15）的内部空间（25）从设置在真空容器（15）上的排气孔（14）真空排气，当进行真空处理时，使排气孔（14）成为气体不穿过的状态，使得来自粘附衬垫（17）的排出气体不排出到对保持对象物（5）进行真空处理的环境内。

主权项

1.一种保持装置，用于使设置在保持单元上的粘附衬垫与保持对象物接触，利用上述粘附衬垫粘附保持并输送上述保持对象物，其特征在于，具有一个或多个上述保持单元，上述保持单元具有：真空容器；接触部，配置在上述真空容器的边缘上，与上述保持对象物接触，使上述真空容器的内部空间从上述真空容器的外部空间切断；排气孔，设置在上述真空容器上，成为利用吸附用排气装置将上述内部空间的气体真空排气的通路，上述内部空间被上述保持对象物和上述接触部从上述外部空间切断；和移动装置，使上述粘附衬垫移动，上述粘附衬垫配置在上述内部空间中，作为上述移动装置使上述粘附衬垫移动的方向的移动方向具有相对于接触平面垂直的方向的移动分量，所述接触平面是上述接触部的表面中的与上述保持对象物接触的部分所位于的平面。