[发明专利]电子照相感光构件及其制造方法、处理盒和电子照相设备、和羟基镓酞菁晶体在审
| 申请号： | 201510197882.X | 申请日： | 2015-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN105045054A | 公开（公告）日： | 2015-11-11 |
| 发明（设计）人： | 川原正隆;西田孟;久野纯平;田中正人;渡口要 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03G5/14 | 分类号： | G03G5/14;G03G5/06;G03G21/18;G03G15/00;C30B29/54;C07D487/22 |
| 代理公司： | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人： | 魏启学 |
| 地址： | 日本东京都大*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种电子照相感光构件、电子照相感光构件的制造方法、处理盒和电子照相设备、和羟基镓酞菁晶体。电子照相感光构件包括支承体和在所述支承体上的感光层，并且所述感光层包含在CuKαX射线衍射中在布拉格角2θ±0.2°为6.9°、7.7°、16.4°、24.4°和26.5°处具有峰的羟基镓酞菁晶体。 | ||
| 搜索关键词： | 电子 照相 感光 构件 及其 制造 方法 处理 设备 羟基 镓酞菁 晶体 | ||
【主权项】：
一种电子照相感光构件，其包括：支承体；和在所述支承体上的感光层；其特征在于，所述感光层包括在CuKαX射线衍射中在布拉格角2θ±0.2°为6.9°、7.7°、16.4°、24.4°和26.5°处具有峰的羟基镓酞菁晶体。
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