[发明专利]薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板和显示装置

摘要

本发明公开了一种薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板和显示装置，其中，该薄膜晶体管的制备方法包括：在衬底基板的上方连续沉积非晶硅薄膜和保护层薄膜；对非晶硅薄膜进行退火处理，以使得非晶硅薄膜转化为多晶硅薄膜；对多晶硅薄膜和保护层薄膜进行一次构图工艺，多晶硅薄膜图案化为有源层，保护层薄膜图案化为保护层。在本发明的技术方案中，由于在形成有源层的同时还在有源层的上方形成了保护层，该保护层可对有源层起到保护作用，以在将基板移至下一生产流程的过程中避免有源层被污染。与此同时，由于有源层在运输过程中不会被污染，因此在下一生产流程开始之前无需对有源层进行预清理的工序，从而可缩短整个生产周期。

主权项

一种薄膜晶体管的制备方法，其特征在于，包括：在衬底基板的上方连续沉积非晶硅薄膜和保护层薄膜；对所述非晶硅薄膜进行退火处理，以使得所述非晶硅薄膜转化为多晶硅薄膜；对所述多晶硅薄膜和所述保护层薄膜进行一次构图工艺，将所述多晶硅薄膜图案化为有源层，所述保护层薄膜图案化为保护层。