[发明专利]一种基于柔性衬底材料氧化锌薄膜晶体管的制备方法有效
申请号: | 201510205191.X | 申请日: | 2015-04-28 |
公开(公告)号: | CN104934329B | 公开(公告)日: | 2017-03-22 |
发明(设计)人: | 杨小天;王超;高晓红;赵春雷;郭亮;迟耀丹;初学峰;常玉春;朱慧超;杨佳;吕卅;王锐;任伟 | 申请(专利权)人: | 吉林建筑大学 |
主分类号: | H01L21/34 | 分类号: | H01L21/34 |
代理公司: | 吉林长春新纪元专利代理有限责任公司22100 | 代理人: | 魏征骥 |
地址: | 130118 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明涉及一种基于柔性衬底材料氧化锌薄膜晶体管的制备方法,属于微电子技术领域。包括硬质衬底和柔性衬底的清洗、吹干、烘干,衬底粘合,栅极材料沉积,绝缘层材料沉积,氧化锌沟道层材料沉积,源漏电极沉积。优点是,在室温状态下即可制备、且工艺简便易行、成本低,可应用于柔性显示技术领域。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 柔性 衬底 材料 氧化锌 薄膜晶体管 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种基于柔性衬底材料氧化锌薄膜晶体管的制备方法,其特征在于包括下列步骤:(一)硬质衬底和柔性衬底的清洗、吹干、烘干;所述硬质衬底材料为玻璃、硅片、或不锈钢片,所述柔性衬底材料为聚酰亚胺(PI);(二)衬底粘合,所述衬底粘合材料为光刻胶;所述衬底粘合包括:将硬质衬底固定在匀胶仪上,在硬质衬底中间位置滴光刻胶一,0.2ml—0.5ml,将清洗好的柔性材料衬底聚酰亚胺,置于光刻胶一上面,待硬质衬底与柔性衬底通过光刻胶一全部接触后,启动匀胶仪,转速450—550转/分钟,时间30秒—120秒,使光刻胶一均匀铺在柔性衬底与硬质衬底之间,从而使柔性衬底与硬质衬底紧紧粘合在一起,柔性衬底被平整固定在硬质衬底表面,形成样品一;(三)栅极材料沉积,所述栅极材料为铝,采用电子束蒸发方法制备;所述栅极材料沉积包括:将样品一放入电子束蒸发装置生长室中,放置方向为柔性衬底朝下,用电子束蒸发方法镀铝在柔性衬底上作为栅极(4),完成后,依次将其放入丙酮溶液、乙醇、去离子水中超声清洗3-5分钟,用去离子水冲洗,N2吹干,在此过程中,光刻胶一溶于丙酮溶液,从而,硬质衬底与其他部分分离开来,形成样品二;(四)绝缘层材料沉积,所述绝缘层材料为二氧化硅,采用离子体增强化学气相沉积 方法生长;所述绝缘层材料沉积包括:取4英寸洁净硅片,将样品二放置在硅片上面中间位置,样品二吸附于硅片表面,将带有样品二的硅片置于PECVD生长室底座,为避免绝缘层沉积过程中样品二受热发生卷曲、翘角现象,影响绝缘层生长,取清洗干净的不锈钢片制成的模具一,模具一为方框形,内径15mm,框宽5mm,将模具一压在样品二上面,沉积二氧化硅绝缘层,形成了二氧化硅层后的产品是样品三;(五)氧化锌沟道层材料沉积,所述沟道层材料为氧化锌,方法采用射频磁控溅射;(六)源漏电极沉积,所述源漏电极材料为铝,利用光刻剥离技术,沉积方法采用真空蒸镀、电子束蒸发。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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