[发明专利]光学缺陷检测方法和系统有效

专利信息
申请号: 201510208276.3 申请日: 2015-04-28
公开(公告)号: CN104792793B 公开(公告)日: 2019-09-10
发明(设计)人: 刘凯 申请(专利权)人: 刘凯
主分类号: G01N21/88 分类号: G01N21/88
代理公司: 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 代理人: 黄海霞
地址: 美国加州圣何塞市*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供一种光学缺陷检测方法、装置和系统,其中方法包括二维扫描相机对被测件表面进行扫描,载有数据分析软件的数据分析及机器控制设备接收并分析二维扫描相机传送的二维扫描数据,判断被测件是否存在缺陷,如果存在缺陷,并在需要测定缺陷的高度或深度时,驱动三维显微仪器测定被测件缺陷的高度和/或深度,数据分析及机器控制设备接收高度和/或深度的三维数据,结合二维扫描的数据,判断被测件是否合格。本发明通过运用二维光学扫描和三维光学显微分析相结合的检测方法,确保缺陷检测的精确、可靠和快速,提高产品质量的稳定性。
搜索关键词: 光学 缺陷 检测 方法 系统
【主权项】:
1.一种光学缺陷检测方法,其特征在于,包括:二维扫描相机对放置在承载台上的被测件进行扫描,并将二维扫描数据传送到数据分析及机器控制设备;所述数据分析及机器控制设备根据所述二维扫描数据,判断所述被测件是否存在缺陷,如果存在缺陷,则判断是否需要进一步扫描,如果需要进一步扫描,则所述数据分析及机器控制设备驱动三维显微仪器测定所述缺陷的高度和/或深度;所述三维显微仪器对所述被测件进行缺陷的高度和/或深度测定,并将测定的缺陷的高度和/或深度的三维数据传送到所述数据分析及机器控制设备;所述数据分析及机器控制设备根据所述缺陷的高度和/或深度的三维数据,结合所述二维扫描的数据,对所述被测件进行光学缺陷检测。
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