[发明专利]曝光装置和曝光方法有效
| 申请号： | 201510208609.2 | 申请日： | 2015-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN105045043A | 公开（公告）日： | 2015-11-11 |
| 发明（设计）人： | 林慎一郎 | 申请（专利权）人： | 恩斯克科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京奉思知识产权代理有限公司 11464 | 代理人： | 吴立;邹轶鲛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光装置和曝光方法，即使在校正了反射镜的曲率的情况下，也能够改善曝光光的曝光区域的照度分布而提高曝光精度。曝光装置(PE)包括对照射到工件(W)的曝光光的照度进行测定的照度计(40)，在将工件(W)曝光前，使用照度计(40)来测定经由平面镜(68)照射到工件(W)的曝光光的曝光区域(A)的照度分布。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，包括：工件支承部，所述工件支承部支承工件；掩模支承部，所述掩模支承部支承掩模；照明光学系统，所述照明光学系统具有光源和将来自该光源的曝光光反射的反射镜；及镜弯曲机构，所述镜弯曲机构能校正所述反射镜的曲率，所述曝光装置将来自所述光源的曝光光隔着所述掩模照射到所述工件，将所述掩模的图案转印到所述工件，所述曝光装置的特征在于，包括对照射到所述工件的曝光光的照度进行测定的照度计，在曝光所述工件前，使用所述照度计测定经由所述反射镜照射到所述工件的所述曝光光的曝光区域的照度分布。
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