[发明专利]一种可观察半导体薄膜设备传片腔室结构在审

专利信息
申请号: 201510212088.8 申请日: 2015-04-29
公开(公告)号: CN104952777A 公开(公告)日: 2015-09-30
发明(设计)人: 方仕彩;吴凤丽;姜崴;廉杰 申请(专利权)人: 沈阳拓荆科技有限公司
主分类号: H01L21/677 分类号: H01L21/677
代理公司: 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 代理人: 甄玉荃;霍光旭
地址: 110179 辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种可观察半导体薄膜设备传片腔室结构,包括升降机构连接板、传片腔室盖板及密封圈。所述传片腔室盖板上设有多个圆形透明单元;所述圆形透明单元通过密封圈及螺钉A与传片腔室盖板密封连接,整个结构呈一体;所述升降机构连接板通过螺钉B与传片腔室盖板固定连接;所述的圆形透明单元所在观察位置结构对称位。本发明构思合理,四处观察位置结构对称,机械手在X或Y任意方向传取片时,都可观察到晶圆的有无及状态。由于采用了多处小透明盖板的分布替代了比较厚的大透明盖板,大大的降低了设备的总成本并提高了设备的整体美观性。
搜索关键词: 一种 观察 半导体 薄膜 设备 传片腔室 结构
【主权项】:
一种可观察半导体薄膜设备传片腔室结构,其特征在于:它包括升降机构连接板、传片腔室盖板及密封圈,所述传片腔室盖板上设有多个圆形透明单元;所述圆形透明单元通过密封圈及螺钉A与传片腔室盖板密封连接,整个结构呈一体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳拓荆科技有限公司,未经沈阳拓荆科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510212088.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top