[发明专利]膜层结构及测试方法、显示基板及测试方法和制备方法在审
| 申请号： | 201510214085.8 | 申请日： | 2015-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN104808072A | 公开（公告）日： | 2015-07-29 |
| 发明（设计）人： | 张玉军;刘超 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G01R27/26 | 分类号： | G01R27/26 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种膜层结构及测试方法、显示基板及测试方法和制备方法，该膜层结构包括：第一金属层、第二金属层、第一测试端子、第二测试端子，以及位于第一金属层和第二金属层之间的绝缘层；其中，第一测试端子与第一金属层相连，第二测试端子与第二金属层相连；第一金属层、绝缘层和第二金属层三层之间在至少一侧形成阶梯结构，这样对上述膜层结构进行测试时，通过测试探针上升或下降的移动轨迹测试阶梯结构的落差，进而获得较精确的绝缘层的厚度，再根据第一金层与第二金属层之间的电容值和相对面积，可以计算获得较精确的绝缘层的介电常数。 | ||
| 搜索关键词： | 结构 测试 方法 显示 制备 | ||
【主权项】：
一种膜层结构，其特征在于，包括：第一金属层、第二金属层、第一测试端子、第二测试端子，以及位于所述第一金属层和所述第二金属层之间的绝缘层；其中，所述第一测试端子与所述第一金属层相连，所述第二测试端子与所述第二金属层相连；所述第一金属层、所述绝缘层和所述第二金属层三层之间在至少一侧形成阶梯结构。
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