[发明专利]上电极结构及等离子体增强化学气相沉积装置在审

专利信息
申请号: 201510225072.0 申请日: 2015-05-05
公开(公告)号: CN104789947A 公开(公告)日: 2015-07-22
发明(设计)人: 南建辉;王崧;何嘉 申请(专利权)人: 北京精诚铂阳光电设备有限公司
主分类号: C23C16/513 分类号: C23C16/513
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 赵囡囡;吴贵明
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种上电极结构及等离子体增强化学气相沉积装置。该上电极结构包括中心电极板和围绕中心电极板并与中心电极板连接的外围电极板,外围电极板的底面低于中心电极板的底面,且上电极结构中具有贯穿上电极结构的通气孔道。由于外围电极板的底面低于中心电极板的底面,且上电极结构中具有贯穿上电极结构的通气孔道,从而能够使上电极结构的底面形成有拱形结构,进而提高了通过上电极结构的工艺气体的气流均匀性,使利用工艺气体沉积形成的薄膜具有更好的均匀性;并且,由于上电极结构包括有连接设置的中心电极板和外围电极板,从而能够通过调节中心电极板和外围电极板的位置关系进一步地对工艺气体的气流均匀性进行优化。
搜索关键词: 电极 结构 等离子体 增强 化学 沉积 装置
【主权项】:
一种上电极结构,其特征在于,所述上电极结构包括中心电极板(10)和围绕所述中心电极板(10)并与所述中心电极板(10)连接的外围电极板(20),所述外围电极板(20)的底面低于所述中心电极板(10)的底面,且所述上电极结构中具有贯穿所述上电极结构的通气孔道。
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