[发明专利]铜铟镓硒靶材金属化层制备方法在审

专利信息
申请号: 201510232814.2 申请日: 2015-05-08
公开(公告)号: CN106180721A 公开(公告)日: 2016-12-07
发明(设计)人: 吕宏;谢元锋;夏扬 申请(专利权)人: 北京有色金属研究总院
主分类号: B22F3/14 分类号: B22F3/14;C23C14/34;H01L31/18
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人: 刘徐红
地址: 100088 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种铜铟镓硒靶材金属化层制备方法,在制备铜铟镓硒靶材的同时制备金属化层,属于有色金属加工领域。首先,将石墨垫板置于热压炉模具的下压头上,然后将金属片放在石墨垫板上,放入铜铟镓硒粉料,再放入上压头,将模具放于热压炉中进行热压烧结,在升温的同时加压,进行保温保压,然后冷却至室温;然后,将靶材从热压炉中取出,先加工靶面,然后加工金属化层,根据需要的金属化层的厚度确定加工量。本发明方法得到的铜铟镓硒靶材金属化层易于钎焊;导电、导热性能好;成本低,与靶材制备过程同步,大大降低生产成本。
搜索关键词: 铜铟镓硒靶材 金属化 制备 方法
【主权项】:
一种铜铟镓硒靶材金属化层制备方法,包括如下步骤:A.将石墨垫板置于热压炉模具的下压头上,然后将金属片放在石墨垫板上,放入铜铟镓硒粉料,再放入上压头,将模具放于热压炉中进行热压烧结,在升温的同时加压,进行保温保压,然后冷却至室温;B.将靶材从热压炉中取出,先加工靶面,然后加工金属化层,根据需要的金属化层的厚度确定加工量。
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