[发明专利]表面处理剂在审

专利信息
申请号: 201510236154.5 申请日: 2015-05-11
公开(公告)号: CN105287253A 公开(公告)日: 2016-02-03
发明(设计)人: 岩本千纮;粂井贵行;渡边顺司 申请(专利权)人: 株式会社芳珂;学校法人甲南学园
主分类号: A61K8/90 分类号: A61K8/90;A61K8/893;A61Q1/00;A61Q17/04
代理公司: 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人: 武硕
地址: 日本神奈川县*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明在于提供一种表面处理剂,即通过干燥时为疏水性,与水接触时慢慢变为亲水性,从而化妆保持性与冲洗性并存。具体而言,为含有下述通式(1)表示的第1嵌段共聚物的表面处理剂。(式(1)中,R1、R2各自独立地表示烷基、聚氧化亚烷基、酰基、苯基、芳烷基,X表示不邻接的碳原子可被氧原子取代从而形成醚的碳原子数1~18的烷基链,Y表示单键或2价的连接基团,Z1表示氢原子或甲基,n、m表示聚合度)。
搜索关键词: 表面 处理
【主权项】:
一种表面处理剂,其特征在于,含有下述通式(1)表示的第1嵌段共聚物,式(1)中,R1、R2各自独立地表示烷基、聚氧化亚烷基、酰基、苯基、芳烷基,X表示不邻接的碳原子可被氧原子取代从而形成醚的碳原子数1~18的烷基链,Y表示单键或2价的连接基团,Z1表示氢原子或甲基,n、m表示聚合度。
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