[发明专利]定位装置以及处理装置在审
申请号: | 201510239240.1 | 申请日: | 2015-05-12 |
公开(公告)号: | CN105082007A | 公开(公告)日: | 2015-11-25 |
发明(设计)人: | 李文宗;叶而永 | 申请(专利权)人: | 日本电产理德股份有限公司 |
主分类号: | B25B11/00 | 分类号: | B25B11/00;G01R1/04 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 刘灿强;王颖 |
地址: | 日本京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供能够降低与针对处理对象物进行预定处理的处理机构之间产生干扰的可能性的定位装置和处理装置。将板状的玻璃板(G)定位在预定位置的定位装置(2)具有:载置台(22),具有载置有玻璃板(G)的上表面(221);抵接构件(24),能够抵接到载置于上表面(221)的玻璃板(G)的第一边(G1);凸轮机构(26)和气缸(25),进行通过用抵接构件(24)推压第一边(G1)来定位玻璃板(G)的定位动作、以及使抵接构件(24)从第一边(G1)分离且使抵接构件(24)退避到上表面(221)下方的退避动作。 | ||
搜索关键词: | 定位 装置 以及 处理 | ||
【主权项】:
一种定位装置,是将板状的处理对象物定位在预定位置的定位装置,其特征在于,具有:载置台,具有载置有所述处理对象物的上表面,第一抵接构件,能够抵接到载置于所述上表面的所述处理对象物的第一边,驱动部,进行通过利用所述第一抵接构件推压所述第一边来定位所述处理对象物的定位动作、以及使所述第一抵接构件从所述第一边分离并使所述第一抵接构件退避到所述上表面下方的退避动作。
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