[发明专利]等离子体处理装置和应用于等离子体处理装置的排气构造

摘要

本发明提供即使在对载置台施加高功率的高频电力的情况下也能够有效地防止在处理室内的不期望部分处的放电、等离子体进入到排气区域的等离子体处理装置和应用于等离子体处理装置的排气构造。一种等离子体处理装置，在处理室内将基板载置于载置台的载置面上，在处理室内对载置台施加偏压用的高频电力并对基板进行等离子体处理，其具有多个分隔构件，该分隔构件设于载置面的下方位置且有导电性材料构成，将处理室分隔成对基板进行等离子体处理的处理区域和与排气系统相连的排气区域，多个分隔构件不具有开口部且与接地电位相连接，相邻的分隔构件以在彼此之间形成将供给到处理区域的处理气体导向排气区域的豁口的方式分开地配置。

主权项

一种等离子体处理装置，其特征在于，该等离子体处理装置包括：处理室，其用于容纳基板并对基板实施等离子体处理；载置台，其在所述处理室内并具有用于载置基板的载置面；处理气体供给系统，其用于向所述处理室内供给处理气体；排气系统，其用于对所述处理室内进行排气；等离子体生成机构，其用于生成用于对载置在所述载置台上的基板进行等离子体处理的等离子体；高频电源，其用于对所述载置台施加偏压用的高频电力；以及多个分隔构件，其由导电性材料构成且不具有开口部，该分隔构件设于所述载置面的下方位置，用于将所述处理室分隔成用于对基板进行等离子体处理的处理区域和与所述排气系统相连的排气区域，所述多个分隔构件与接地电位相连接，相邻的分隔构件以在彼此之间形成用于将供给到所述处理区域的处理气体导向所述排气区域的豁口的方式分开地配置，该等离子体处理装置还在与所述分隔构件的高度位置不同的高度位置包括遮蔽构件，该遮蔽构件以在俯视时将所述豁口的至少一部分遮蔽的方式设置，该遮蔽构件由导电性材料构成且不具有开口部，并且与接地电位相连接。