[发明专利]发光设备在审

专利信息
申请号: 201510243837.3 申请日: 2015-05-13
公开(公告)号: CN105090873A 公开(公告)日: 2015-11-25
发明(设计)人: R·A·M·希克梅特;T·范博梅尔 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: F21S10/00 分类号: F21S10/00;F21V8/00;F21W101/02;F21W131/406;F21Y113/00;F21W131/20;F21W131/105
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华
地址: 荷兰艾恩*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发光设备包括:至少一个第一光源(21),适于在操作中发射具有第一光谱分布的第一光(13);至少一个第二光源(22),适于在操作中发射具有第二光谱分布的第二光(14);光导(4),包括至少一个第一光输入表面(41)、至少一个第二光输入表面(46)和第一光出射表面(42),至少一个第一光输入表面和第一光出射表面相对于彼此以不同于零的角度延伸;以及发光元件(77),被布置为邻近第一光出射表面,光导适于将具有第一光谱分布的第一光的至少部分转换为具有第三光谱分布的第三光(17)、引导第二光、并且将第三光的至少部分和第二光的至少部分耦合出第一光出射表面,发光元件适于将第二光的至少部分转换为具有第四光谱分布的第四光(18)。
搜索关键词: 发光 设备
【主权项】:
一种发光设备(1),包括:至少一个第一光源(21),适于在操作中发射具有第一光谱分布的第一光(13),所述第一光谱分布包括在430nm到480nm范围内的峰值波长,至少一个第二光源(22),适于在操作中发射具有第二光谱分布的第二光(14),所述第二光谱分布包括在350nm到410nm范围内的峰值波长,以及光导(4),包括至少一个第一光输入表面(41)、至少一个第二光输入表面(46)以及第一光出射表面(42),所述至少一个第一光输入表面和所述第一光出射表面相对于彼此以不同于零的角度延伸,所述光导(4)适于在所述至少一个第一光输入表面(41)处接收具有所述第一光谱分布的所述第一光(13),将具有所述第一光谱分布的所述第一光(13)的至少部分转换为具有第三光谱分布的第三光(17),所述第三光谱分布包括在500nm到800nm范围内的峰值波长,将具有所述第三光谱分布的所述第三光(17)引导到所述第一光出射表面(42),并且将具有所述第三光谱分布的所述第三光(17)的至少部分耦合出所述第一光出射表面,所述光导还适于在所述至少一个第二光输入表面(46)处接收具有所述第二光谱分布的所述第二光(14),将具有所述第二光谱分布的所述第二光(14)引导到所述第一光出射表面(42),并且将具有所述第二光谱分布的所述第二光(14)的至少部分耦合出所述第一光出射表面,所述发光设备进一步包括布置为邻近于所述第一光出射表面的发光元件(77),所述发光元件适于将具有所述第二光谱分布的所述第二光(14)的至少部分转换为具有第四光谱分布的第四光(18),所述第四光谱分布包括在430nm到500nm范围内的峰值波长。
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