[发明专利]一种硅的热浸镀ZnAl4合金镀层及其制备方法在审
申请号: | 201510244133.8 | 申请日: | 2015-05-14 |
公开(公告)号: | CN104962850A | 公开(公告)日: | 2015-10-07 |
发明(设计)人: | 苏旭平;宋媛媛;王俊文;刘亚;曹达纯;王建华 | 申请(专利权)人: | 常州大学 |
主分类号: | C23C2/06 | 分类号: | C23C2/06;C22C18/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 213164 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明属于热浸镀技术领域,具体涉及一种硅的热浸镀ZnAl4合金镀层及其制备方法。所述镀层组分按质量百分数计算:Zn的含量控制在94%,Al的含量控制在3.7~3.85%,Si的含量控制在0.15~0.3%,Fe的含量控制在2%。在熔池中加入0.15%Si和2%Fe时,Fe-Al中间合金层的生长受到抑制,特别是在600℃时较为明显。该方法通过将熔池中加入硅元素阻碍了Fe和Al原子通过液相通道的相互扩散过程,从而降低了中间合金的厚度,最终对合金中锌铝硅元素进行合理配比,有效改善镀层质量和减小镀层对基体造成的侵蚀破坏。 | ||
搜索关键词: | 一种 热浸镀 znal sub 合金 镀层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种硅的热浸镀ZnAl4合金镀层,其特征在于,所述镀层组分按质量百分数计算:Zn的含量控制在94%,Al的含量控制在3.7~3.85%,Si的含量控制在0.15~0.3%,Fe的含量控制在2%。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C2-00 用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺;其所用的设备
C23C2-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域上镀覆
C23C2-04 .以覆层材料为特征的
C23C2-14 .过量熔融覆层的除去;覆层厚度的控制或调节
C23C2-26 .后处理
C23C2-30 .熔剂或融态槽液上的覆盖物
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