[发明专利]MOS开关电容电路的芯片集成结构有效

专利信息
申请号: 201510246279.6 申请日: 2015-05-15
公开(公告)号: CN104882443B 公开(公告)日: 2017-10-31
发明(设计)人: 王建全;彭彪;张干;王作义;崔永明 申请(专利权)人: 四川广义微电子股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙)51220 代理人: 罗言刚
地址: 629000 四川省遂宁市经济技术开发区内(*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: MOS开关电容电路的芯片集成结构,包括A型外延层,还包括位于A型外延层上的第一B型器件和第二B型器件,所述第一B型器件和第二B型器件之间为A型重掺杂区,所述A型重掺杂区的掺杂浓度大于A型外延层的掺杂浓度,所述A型重掺杂区紧邻第一B型器件内侧有源区,所述A型重掺杂区的底部具有向第一B型器件的内侧有源区底部延伸的延伸部;所述第一B型器件的内侧有源区与第二B型器件栅极电连接;所述A型、B型为载流子是空穴或电子的导电类型,B型器件为MOS器件。本发明将常用的开关电容电路各个器件统一设计和制造,显著减小了开关电容电路的面积,减少了芯片制造过程的器件连线,简化设计的同时降低了开关电容电路芯片的制造成本。
搜索关键词: mos 开关 电容 电路 芯片 集成 结构
【主权项】:
MOS开关电容电路的芯片集成结构,包括A型外延层,其特征在于,还包括位于A型外延层上的第一B型器件和第二B型器件,所述第一B型器件和第二B型器件之间为A型重掺杂区,所述A型重掺杂区的掺杂浓度大于A型外延层的掺杂浓度,所述A型重掺杂区紧邻第一B型器件内侧有源区,所述A型重掺杂区的底部具有向第一B型器件的内侧有源区底部延伸的延伸部;所述第一B型器件的内侧有源区与第二B型器件栅极电连接;所述A型、B型为载流子是空穴或电子的导电类型,B型器件为MOS器件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于四川广义微电子股份有限公司,未经四川广义微电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510246279.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top