[发明专利]一种高产能吸盘的气道结构在审
申请号: | 201510253470.3 | 申请日: | 2015-05-18 |
公开(公告)号: | CN104950591A | 公开(公告)日: | 2015-09-30 |
发明(设计)人: | 宋耀东;项宗齐;何少锋;方林 | 申请(专利权)人: | 合肥芯硕半导体有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 | 代理人: | 余成俊 |
地址: | 230601 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种高产能吸盘的气道结构,包括有吸盘体,吸盘体内设有位于下部的十字形的下层气道、位于中部的环形通道以及位于上部的若干相互独立的上层气道;吸盘体内设有联通于下层气道与环形通道之间的下层联通孔、联通于环形通道与相应上层气道之间的若干中层联通孔以及联通于吸盘表面与相应上层气道之间的吸气孔,吸盘表面上设有若干排与吸气孔一一对应的吸气槽;环形通道与相应的上层气道之间联通的部位分别设有气路开关;所述吸盘体底部设有与下层气道联通的抽气孔。本发明吸盘表面结构合理,布局美观。实现了多区域单独控制气路的闭合与开启,适用于对不同尺寸基片的吸附。 | ||
搜索关键词: | 一种 产能 吸盘 结构 | ||
【主权项】:
一种高产能吸盘的气道结构,其特征在于:包括有吸盘体,吸盘体内设有位于下部的十字形的下层气道、位于中部的环形通道以及位于上部的若干相互独立的上层气道;吸盘体内设有联通于下层气道与环形通道之间的下层联通孔、联通于环形通道与相应上层气道之间的若干中层联通孔以及联通于吸盘表面与相应上层气道之间的吸气孔,吸盘表面上设有若干排与吸气孔一一对应的吸气槽;环形通道与相应的上层气道之间联通的部位分别设有气路开关;所述吸盘体底部设有与下层气道联通的抽气孔。
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