[发明专利]用于电子器件的栅绝缘层在审
| 申请号： | 201510255678.9 | 申请日： | 2011-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN104877292A | 公开（公告）日： | 2015-09-02 |
| 发明（设计）人： | D·C·穆勒;T·库尔;P·米斯基韦茨;M·卡拉斯克-奥罗兹可;A·贝尔;E·埃尔斯;L·F·罗迪斯;藤田一義;H·恩格;P·坎达纳拉什切;S·史密斯 | 申请（专利权）人： | 默克专利股份有限公司;普罗米鲁斯有限责任公司 |
| 主分类号： | C08L45/00 | 分类号： | C08L45/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 冯奕 |
| 地址： | 德国达*** | 国省代码： | 德国;DE |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 根据本发明的实施方案提供了聚环烯烃在电子器件中的用途且更特别涉及这种聚环烯烃作为栅绝缘层在电子器件制造中的用途、包括这种聚环烯烃栅绝缘体的电子器件，以及用于制备这种聚环烯烃栅绝缘层和电子器件的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 电子器件 绝缘 | ||
【主权项】：
聚合物组合物，其包括聚环烯烃聚合物和粘合促进剂，其中所述聚合物包含一种或多种具有可交联基团的重复单元，和所述粘合促进剂是具有以下结构的化合物：![]()
其中R12、R13和R14各自独立地选自卤素、硅氮烷、C1‑C12‑烷氧基，C1‑C12‑烷基氨基，任选取代的C5‑C20‑芳氧基和任选取代的C2‑C20‑杂芳氧基，且其中R12、R13和R14中的一个或两个还可以表示C1‑C12‑烷基，任选取代的C5‑C20‑芳基或任选取代的C2‑C20‑杂芳基，A'是单键或间隔基团、连接基团或桥基，和R10和R11各自独立地为H或C1‑C6烷基。
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