[发明专利]分析装置和校正方法有效

专利信息
申请号: 201510257968.7 申请日: 2015-05-19
公开(公告)号: CN105092624B 公开(公告)日: 2019-08-27
发明(设计)人: 水野裕介;青山朋树 申请(专利权)人: 株式会社堀场制作所
主分类号: G01N23/223 分类号: G01N23/223
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 王玉玲;李雪春
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种分析装置,其在大气气氛中采用荧光X射线进行成分分析时,针对随时间的变化带来的影响进行校正。所述分析装置(100)包括照射部(51)、检测部(53)、环境测定部(8)以及随时间变化量计算部(96)。照射部(51)照射一次X射线。检测部(53)检测通过大气气氛中的二次X射线强度。环境测定部(8)对定义大气气氛的环境参数进行测定。随时间变化量计算部(96)根据第1环境参数、第1二次X射线强度、第2环境参数、第2二次X射线强度,计算第1定时和第2定时之间的、随时间变化的二次X射线强度的变化量。
搜索关键词: 分析 装置 校正 方法
【主权项】:
1.一种分析装置,根据从颗粒状物质产生的荧光X射线进行所述颗粒状物质的成分分析,所述分析装置的特征在于,包括:照射部,在大气气氛中,照射用于激发所述颗粒状物质使其产生荧光X射线的一次X射线;检测部,检测通过照射所述一次X射线而产生并通过所述大气气氛中的二次X射线强度;环境测定部,对定义大气气氛的环境参数进行测定;随时间变化量计算部,根据所述环境测定部在第1定时测定的第1环境参数、所述检测部在所述第1定时检测的第1二次X射线强度、所述环境测定部在所述第1定时的规定时间之前的第2定时测定的第2环境参数、和所述检测部在所述第2定时检测的第2二次X射线强度,计算所述第1定时与所述第2定时之间的、随时间变化的二次X射线强度的变化量或变化率;以及用于捕集所述颗粒状物质的捕集过滤器,所述第1二次X射线和所述第2二次X射线中的至少一方是通过对所述捕集过滤器照射所述一次X射线而产生的散射二次X射线。
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