[发明专利]一种能够消除光刻显影缺陷的光刻显影方法在审
申请号: | 201510259349.1 | 申请日: | 2015-05-20 |
公开(公告)号: | CN104849967A | 公开(公告)日: | 2015-08-19 |
发明(设计)人: | 信会菊;卫路兵;郎刚平;王冰 | 申请(专利权)人: | 中国航天科技集团公司第九研究院第七七一研究所 |
主分类号: | G03F7/30 | 分类号: | G03F7/30 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 徐文权 |
地址: | 710068 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种能够消除光刻显影缺陷的光刻显影方法,首先采用清洗液对晶圆片进行冲洗,冲洗后对晶圆片表面浸润;然后对浸润处理后的晶圆片喷涂显影液,然后显影;接着采用清洗液对显影处理后的晶圆片进行冲洗;最后将冲洗处理后的晶圆片甩干。采用本发明方法可解决由于微气泡粘附在光刻胶表面引起的圆形或类圆形未显开异常,满足显影工艺的各项要求。 | ||
搜索关键词: | 一种 能够 消除 光刻 显影 缺陷 方法 | ||
【主权项】:
一种能够消除光刻显影缺陷的光刻显影方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一:采用清洗液对晶圆片进行冲洗,冲洗后对晶圆片表面浸润;步骤二:对步骤一处理后的晶圆片喷涂显影液,然后显影;步骤三:采用清洗液对步骤二处理后的晶圆片进行冲洗;步骤四:将经步骤三处理后的晶圆片甩干。
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