[发明专利]利用同步辐射大面积快速制备颜色滤波器的方法及装置

摘要

本发明公开了一种利用同步辐射大面积快速制备颜色滤波器的方法及装置。本发明利用同步辐射软X射线照射四光栅组，通过挡板滤去其他衍射级次，只保留一级衍射条纹形成干涉图样，对玻璃基底上的光刻胶曝光形成周期性二维孔状微纳结构，通过精确控制样品台的二维平移，实现快速大面积拼接曝光。后续用电子束蒸镀技术将金属蒸镀于孔中，并通过超声清洗机剥离光刻胶实现玻璃基底上二维金属圆柱微纳结构阵列的颜色滤波器制备。本发明具有精度高、速度快、装置结构简单、易于操作等优点。制备出的滤波器具有大面积、偏振无关、超高透射率等特点，在色彩合成图像显示、图像传感器、数码摄像机、投影仪等领域的实际应用中具有重要作用。

主权项

一种利用同步辐射大面积快速制备颜色滤波器的方法，其特征在于，包括以下步骤：a．将甩有光刻胶的玻璃基底置于具有二维平移控制装置的样品台上；b．根据所需颜色对应的微结构参数，所述的微结构参数包括周期、膜厚、占空比，选择所需的四光栅组, 利用同步辐射软X射线照射四光栅组，保留一级衍射条纹形成干涉图样，通过挡板滤去其他衍射级次，对玻璃基底上的光刻胶进行曝光；曝光形成的微结构周期p和光栅周期Λ之间的关系为其中λ为曝光所用软X射线波长，θ为相对的两光栅一级衍射光夹角；c．控制样品台的二维平移，实现拼接曝光；d．进行金属膜层蒸镀，对光刻胶进行剥离后得到颜色滤波器。